Rasterelektronemikroskop (SEM)

Projet

Parameter

Elektronenoptescht System

Elektronenpistoul Typ

Virzentréiert Wolframfilament-Elektronekanoun

Opléisung

Héichvakuum

5nm@10kV(SE)

3nm@30kV(SE)

8nm@3kV(SE)

Vergréisserung

1–300.000× (Basisvergréisserung)

1–16× (optesch Vergréisserung)

Beschleunigungsspannung

0,2 kV ~ 30 kV

Bildgebungssystem

Detektor

Sekundärelektronendetektor (ETD)

Réckstreuungselektronendetektor

Detektor fir sekundär Elektronen am niddrege Vakuum

Energiedispersiounsspektroskopie (EDS), etc.

Bildspeicherformat

TIFF, JPG, BMP, PNG, bis zu 48k*32k

Konfiguratioun

Optesch Navigatiounsfunktioun, equipéiert mat horizontaler CCD-Kamera a vertikaler Kamera

Vakuumsystem

Vakuummodus

Héichvakuum

Besser wéi 5×10⁻⁴ Pa

Niddreg Vakuum

5~1000Pa

Kontrollmethod

Voll automatesch Kontroll

Proufkammer

Kamera

Optesch Navigatioun

Iwwerwaachung vu Proufkammeren

Beispill Bühnkonfiguratioun

5-Achs vollautomatiséiert Proufbühn mat komplett zouenen internen motoriséierten Design

Reesbereich

X：120 mm

AN：115 mm

MAT：50 mm

R (Rotatioun): 360° kontinuéierlech justierbar

T：-10°~+90°

Kapazitéit vun der Proufkammer

Breet: 340 mm

Héicht: 274 mm

Déift: 295 mm

Maximal Proufgréisst

Duerchmiesser: 270 mm

Héicht: 53 mm