주사전자현미경(SEM)

프로젝트

매개변수

전자광학 시스템

전자총 타입

사전 중심화된 텅스텐 필라멘트 전자총

해결

고진공

5nm@10kV(SE)

3nm@30kV(SE)

8nm@3kV(SE)

확대

1~300,000배 (기본 배율)

1~16배 (광학 확대율)

가속 전압

0.2kV~30kV

이미징 시스템

탐지기

이차 전자 검출기(ETD)

후방산란 전자 검출기

저진공 2차 전자 검출기

에너지 분산 분광법(EDS) 등

이미지 저장 형식

TIFF, JPG, BMP, PNG, 최대 48k*32k

구성

수평 CCD 카메라와 수직 카메라를 장착하여 광학 항법 기능을 제공합니다.

진공 시스템

진공 모드

고진공

5×10⁻⁴ Pa보다 우수함

저진공

5~1000Pa

제어 방법

완전 자동 제어

샘플 챔버

카메라

광학 항법

샘플 챔버 모니터링

샘플 단계 구성

완전 밀폐형 내부 모터 구동 방식의 5축 완전 자동 샘플 스테이지

여행 범위

엑스：120mm

그리고：115mm

와 함께：50mm

R(회전): 360° 연속 조절 가능

티：-10°~+90°

시료 챔버 용량

너비: 340mm

높이: 274mm

깊이: 295mm

최대 샘플 크기

지름: 270mm

높이: 53mm