NMP-tislausjärjestelmä

Soveltamisala:
⩥ Litiumioniakkujen valmistus: NMP-jätteen puhdistus elektrodilietteen pinnoitusprosessista.
⩥ Lääketeollisuus: reaktioliuottimena tai täyteaineena käytettävän NMP:n puhdistus.
⩥ Elektroniikka- ja puolijohdevalmistus: NMP:n kierrätys fotoresistanssien poisto- ja puhdistusprosesseissa.
⩥ Akkujen kierrätys: akkujen kierrätysprosesseista peräisin olevan NMP-jätteen puhdistus.

Laitteiston edut:
⩥ Tislauspuhtaus ylittää 99,9 %, mikä täyttää huippuluokan litiumparistojen tuotantovaatimukset.
⩥ Käytön joustavuus: Tislausjärjestelmän käynnistys ja vakaa tila saavutetaan noin 12 tunnissa ja normaali sammutus noin 4 tunnissa; syöttömäärä voi vaihdella 60–120 %:n välillä suunnitellusta määrästä.
⩥ Vakaa toiminta: DCS:n käyttö automaattisella ohjauksella ja PID-parametrien kohtuullisella säädöllä; kriittisten nestelämpötilojen ja -tasojen ylä- ja alahälytysarvot varmistavat vakaan prosessin.
⩥ Alhaiset käyttökustannukset: tislauksen kustannukset laitoksessa ovat 50 % alhaisemmat kuin ulkoisessa käsittelyssä.

Prosessin alku:
Jos seos kuumennetaan kiehuvaksi osittaisella haihduttamisella, erittäin haihtuvat komponentit (alhaiset kiehumispisteet, "kevyet" komponentit) ovat väkevämpiä höyryfaasissa kuin nestefaasissa, kun taas alhaisen haihtuvuuden komponentit (korkeat kiehumispisteet, "raskaat" komponentit) ovat väkevämpiä nestefaasissa. Höyrykondensaation aikana raskaiden komponenttien pitoisuus kondensaatissa on korkeampi kuin höyryssä, ja päinvastoin. Useiden osittaisten haihdutusten ja kondensaatioiden jälkeen höyryfaasissa saadaan suhteellisen puhtaita kevyitä komponentteja ja nestefaasissa suhteellisen puhtaita raskaita komponentteja.

Prosessin kulku:

• NMP:n kolmen tornin tislausprosessi

• Kaksitorninen NMP-tislausprosessi