एनएमपी डिस्टिलेशन सिस्टम
अनुप्रयोग क्षेत्र:
⩥लिथियम-आयन बॅटरी उत्पादन: इलेक्ट्रोड स्लरी कोटिंग प्रक्रियेतून मिळणाऱ्या NMP टाकाऊ द्रवाचे शुद्धीकरण.
⩥औषधनिर्माण उद्योग: अभिक्रिया द्रावक किंवा सहायक घटक म्हणून वापरल्या जाणाऱ्या NMP चे शुद्धीकरण.
⩥इलेक्ट्रॉनिक्स आणि सेमीकंडक्टर उत्पादन: फोटोरेझिस्ट स्ट्रिपिंग आणि क्लीनिंग प्रक्रियेमध्ये NMP चा पुनर्वापर.
⩥बॅटरी पुनर्वापर उद्योग: बॅटरी पुनर्वापर प्रक्रियेतील NMP टाकाऊ द्रवाचे शुद्धीकरण.
उपकरणांचा फायदा:
⩥९९.९% पेक्षा जास्त ऊर्ध्वपातन शुद्धता, उच्च दर्जाच्या लिथियम बॅटरी उत्पादनाच्या गरजा पूर्ण करते.
⩥कार्यवाहीतील लवचिकता: डिस्टिलेशन प्रणालीला सुरू झाल्यापासून स्थिर स्थितीपर्यंत सुमारे १२ तास लागतात आणि सामान्यपणे बंद होण्यासाठी सुमारे ४ तास लागतात; फीडिंगचे प्रमाण डिझाइन केलेल्या प्रमाणाच्या ६०% ते १२०% पर्यंत बदलू शकते.
⩥स्थिर कार्यप्रणाली: योग्यरित्या सेट केलेल्या PID पॅरामीटर्ससह DCS स्वयंचलित नियंत्रण प्रणालीचा वापर करा; उत्पादन प्रक्रियेचे सुरळीत संचालन सुनिश्चित करण्यासाठी महत्त्वाच्या तापमान आणि द्रव पातळीसाठी उच्च आणि निम्न मर्यादा अलार्म मूल्ये सेट करा.
⩥कमी परिचालन खर्च: संयंत्रातील ऊर्ध्वपातनाचा परिचालन खर्च बाह्य प्रक्रिया खर्चापेक्षा ५०% कमी आहे.
प्रक्रिया तत्त्व:
जर मिश्र द्रवाला उकळी येईपर्यंत तापवले, परंतु त्याचे केवळ अंशतः बाष्पीभवन झाले, तर उच्च बाष्पशील घटक, म्हणजेच कमी उत्कलन बिंदू असलेले घटक (ज्यांना बाष्पशील घटक किंवा हलके घटक म्हणतात), द्रव अवस्थेपेक्षा बाष्प अवस्थेत जास्त प्रमाणात असतील, तर कमी बाष्पशील घटक, म्हणजेच उच्च उत्कलन बिंदू असलेले घटक (ज्यांना बाष्पहीन घटक किंवा जड घटक म्हणतात), बाष्प अवस्थेपेक्षा द्रव अवस्थेत जास्त प्रमाणात असतील. त्याचप्रमाणे, जेव्हा मिश्रणाच्या बाष्प भागाचे संघनन होते, तेव्हा संघनित द्रवामध्ये बाष्पहीन घटकांचे प्रमाण बाष्प अवस्थेपेक्षा जास्त असते आणि याउलटही घडते. अनेक वेळा अंशतः बाष्पीभवन किंवा अंशतः संघनन झाल्यावर, बाष्प अवस्थेत तुलनेने शुद्ध बाष्पशील घटक, तर द्रव अवस्थेत तुलनेने शुद्ध बाष्पहीन घटक मिळवता येतात.
प्रक्रिया प्रवाह:
एनएमपी तीन-टॉवर ऊर्ध्वपातन प्रक्रिया:

एनएमपी दोन-टॉवर ऊर्ध्वपातन प्रक्रिया:


