উচ্চ NMP পাতন কলাম
এনএমপি পাতন ব্যবস্থা
প্রয়োগ ক্ষেত্রঃ
লিথিয়াম-আয়ন ব্যাটারি উৎপাদন: ইলেকট্রোড স্লারি কোটিং প্রক্রিয়া থেকে প্রাপ্ত এনএমপি বর্জ্য তরলের পরিশোধন।
ঔষধ শিল্প: বিক্রিয়ার দ্রাবক বা সহায়ক উপাদান হিসেবে ব্যবহৃত NMP-এর পরিশোধন।
ইলেকট্রনিক্স ও সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদন: ফটোরেজিস্ট স্ট্রিপিং এবং ক্লিনিং প্রক্রিয়ায় এনএমপি-র পুনর্ব্যবহার।
ব্যাটারি পুনর্ব্যবহার শিল্প: ব্যাটারি পুনর্ব্যবহার প্রক্রিয়া থেকে প্রাপ্ত এনএমপি বর্জ্য তরলের পরিশোধন।
সরঞ্জামের সুবিধাঃ
⩥পাতন বিশুদ্ধতা ৯৯.৯%-এর বেশি, যা উচ্চমানের লিথিয়াম ব্যাটারি উৎপাদনের চাহিদা পূরণ করে।
⩥কার্যকরী নমনীয়তা: পাতন সিস্টেমটি চালু হওয়ার পর স্থিতিশীল অবস্থায় আসতে প্রায় ১২ ঘন্টা এবং স্বাভাবিকভাবে বন্ধ হতে প্রায় ৪ ঘন্টা সময় নেয়; এতে সরবরাহকৃত উপাদানের পরিমাণ নকশাকৃত পরিমাণের ৬০% থেকে ১২০% পর্যন্ত পরিবর্তিত হতে পারে।
স্থিতিশীল পরিচালনা: যুক্তিসঙ্গতভাবে সেট করা পিআইডি প্যারামিটারসহ ডিসিএস স্বয়ংক্রিয় নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থা ব্যবহার করুন; উৎপাদন প্রক্রিয়ার মসৃণ পরিচালনা নিশ্চিত করতে গুরুত্বপূর্ণ তাপমাত্রা এবং তরল স্তরের জন্য উচ্চ এবং নিম্ন সীমা অ্যালার্ম মান নির্ধারণ করুন।
⩥স্বল্প পরিচালন ব্যয়: প্ল্যান্টে পাতনের পরিচালন ব্যয় বাহ্যিক প্রক্রিয়াকরণ ব্যয়ের চেয়ে ৫০% কম।
প্রক্রিয়া নীতিঃ
যদি মিশ্র তরলকে স্ফুটনাঙ্কে উত্তপ্ত করা হয় কিন্তু কেবল আংশিকভাবে বাষ্পীভূত করা হয়, তবে উচ্চ উদ্বায়ী উপাদানসমূহ, অর্থাৎ নিম্ন স্ফুটনাঙ্কের উপাদানসমূহ (যাদের উদ্বায়ী উপাদান বা হালকা উপাদান বলা হয়), তরল দশার চেয়ে বাষ্পীয় দশায় তাদের ঘনত্ব বেশি থাকবে, অপরদিকে নিম্ন উদ্বায়ী উপাদানসমূহ, অর্থাৎ উচ্চ স্ফুটনাঙ্কের উপাদানসমূহ (যাদের অনুদ্বায়ী উপাদান বা ভারী উপাদান বলা হয়), বাষ্পীয় দশার চেয়ে তরল দশায় তাদের ঘনত্ব বেশি থাকবে। একইভাবে, যখন কোনো মিশ্রণের বাষ্পীয় অংশ ঘনীভূত হয়, তখন ঘনীভূত অবস্থায় অনুদ্বায়ী উপাদানগুলোর ঘনত্ব বাষ্পীয় দশার চেয়ে বেশি হয় এবং এর বিপরীতটিও সত্য। একাধিকবার আংশিক বাষ্পীভবন বা আংশিক ঘনীভবনের পর, বাষ্পীয় দশায় অপেক্ষাকৃত বিশুদ্ধ উদ্বায়ী উপাদানসমূহ এবং তরল দশায় অপেক্ষাকৃত বিশুদ্ধ অনুদ্বায়ী উপাদানসমূহ পাওয়া যেতে পারে।
প্রক্রিয়া প্রবাহঃ
এনএমপি তিন-টাওয়ার পাতন প্রক্রিয়াঃ
এনএমপি দ্বি-টাওয়ার পাতন প্রক্রিয়াঃ
